ملف:Locos (microtechnology).svg

الملف الأصلي(ملف SVG، أبعاده 600 × 100 بكسل، حجم الملف: 11 كيلوبايت)

ملخص

الوصف
English: The image illustrates the LOCal Oxidation of Silicon (LOCOS) process used in microfabrication, mostly to create isolating structures.

1) Silicon

2) Silicon dioxide
التاريخ ١١ ديسمبر ٢٠٠٧ (تاريخ الرفع الأصيل)
المصدر نُقِلت من en.wikipedia إلى كُومُنز بواسطة Twisp.
المؤلف Twisp في ويكيبيديا الإنجليزية

ترخيص

Public domain وضع -Twisp في ويكيبيديا الإنجليزية-، وهو المؤلف، هذا العمل في النِّطاق العامِّ. يسري ذلك في كل أرجاء العالم.
في بعض البلدان، قد يكون هذا التَّرخيص غيرَ مُمكنٍ قانونيَّاً، في هذه الحالة:
يمنح Twisp الجميع حق استخدام هذا العمل
لأي غرض دون أي شرط ما لم يفرض القانون شروطًا إضافية.

سجلُّ الرَّفع الأصيل

صفحة الوصف الأصلية كانت هنا، تشير جميع أسماء المستخدمين التالية إلى en.wikipedia.
  • 2007-12-11 23:23 Twisp 500×150×0 (7723 bytes) The image illustrates the LOCOS (LOCal Oxidation of Silicon) technology used in microfabrication, mostly to create isolating structures. 1) Silicon 2) Silicon dioxide Author: Twisp Date: 11.12.2007
  • 2007-12-11 23:11 Twisp 500×150×0 (7723 bytes) The image illustrates the locos technology used in microfabrication, mostly to create isolating structures. <br /> 1) Silicon <br /> 2) Silicon dioxide <br /> Author: Twisp <br /> Date: 11.12.2007
  • 2007-12-11 23:03 Twisp 744×1052×0 (7614 bytes) The image illustrates the locos technology used in microfabrication, mostly to create isolating structures. 1) Silicon 2) Silicon dioxide Author: Twisp Date: 11.12.2007

الشروحات

أضف شرحاً من سطر واحد لما يُمثِّله هذا الملف

العناصر المصورة في هذا الملف

يُصوِّر

١١ ديسمبر 2007

تاريخ الملف

اضغط على زمن/تاريخ لرؤية الملف كما بدا في هذا الزمن.

زمن/تاريخصورة مصغرةالأبعادمستخدمتعليق
حالي05:02، 7 أبريل 2008تصغير للنسخة بتاريخ 05:02، 7 أبريل 2008600 × 100 (11 كيلوبايت)commonswiki>Twisp

ال1 ملف التالي مكررات لهذا الملف (المزيد من التفاصيل):

الصفحة التالية تستخدم هذا الملف: