|
تضامنًا مع حق الشعب الفلسطيني |
ملف:Cudeposition.gif
اذهب إلى التنقل
اذهب إلى البحث
لا توجد دقة أعلى متوفرة.
Cudeposition.gif (320 × 380 بكسل حجم الملف: 669 كيلوبايت، نوع MIME: image/gif، ملفوف، 187 إطارا، 19ث)
ملاحظة: نظراً للقيود التقنية، فإن الصورة المصغرة لهذا الملف GIF عالي الدقة ستكون غير متحركة.
 | هذا ملف من ويكيميديا كومنز. معلومات من صفحة وصفه مبينة في الأسفل. كومنز مستودع ملفات ميديا ذو رخصة حرة. |
ملخص
| الوصف |
Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom with a kinetic energy of 1 eV on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger (10x10x10 unit cells) 3D simulation cell. Simulation made with Sabochick-Lam embedded-atom method potential, Berendsen temperature control used only at the outer boundaries to scale temperature down to 0 K. Initial temperature 0 K (cell prerelaxed to allow for surface relaxation inwards). This kind of processes occur in reality during physical vapour deposition. |
| التاريخ | |
| المصدر | عمل شخصي |
| المؤلف | Knordlun |
ترخيص
|
وضع -I, Knordlun-، وهو المؤلف، هذا العمل في النِّطاق العامِّ. يسري ذلك في كل أرجاء العالم. في بعض البلدان، قد يكون هذا التَّرخيص غيرَ مُمكنٍ قانونيَّاً، في هذه الحالة: يمنح I, Knordlun الجميع حق استخدام هذا العمل لأي غرض دون أي شرط ما لم يفرض القانون شروطًا إضافية. |
تاريخ الملف
اضغط على زمن/تاريخ لرؤية الملف كما بدا في هذا الزمن.
| زمن/تاريخ | صورة مصغرة | الأبعاد | مستخدم | تعليق | |
|---|---|---|---|---|---|
| حالي | 16:39، 30 يوليو 2007 | | 320 × 380 (669 كيلوبايت) | commonswiki>Knordlun | {{Information |Description=Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger 3D simulation cell. Simulation made with Sabochi |
استخدام الملف
ال1 ملف التالي مكررات لهذا الملف (المزيد من التفاصيل):
- ملف:Cudeposition.gif من ويكيميديا كومنز
الصفحتان التاليتان تستخدمان هذا الملف:
